プロセスエンジニア⑥(ALD/CVD)_山梨

職務 プロセスエンジニアとしてALD/CVD成膜装置・プロセス開発業務に参画して頂き、下記業務を担って頂きたい。 具体的な業務 ・半導体製造装置のプロセス開発・性能検証業務 ・顧客への装置納入サポートと技術協議 ・差別性機能開発、及びその検証 チームの一員として開発計画通り業務遂行でき、適時軌道修正できる方、また業務を通じて装置・プロセスの問題点を抽出し、改善策を部内外に提案・実行できる方を募集します。 魅力 各種半導体工程向け装置開発を行っています。 部内にメタル膜・絶縁膜向けの多種多様な開発装置を有し、様々なモジュールのプロセスエンジニアが在籍しており、多岐にわたるスキルを身に着けることができます。希望者はWorld wideの最先端の顧客と業務をおこなうことで自身のスキルアップができます。顧客はアジア、北米、EUにあり、語学、交渉スキルも向上させることができます。シェア拡大、競争力向上に向け、部員一丸となって次世代技術開発に取り組んでおり、チャレンジングな目標を持った活発な部署です。 採用背景 半導体製造装置市場におけるシェア拡大、競争力向上のため、開発力の増強が必須となっており、新たなコンセプトのモジュール開発を進めていく必要がある。そのような中、開発の基本戦力であるプロセスエンジニアを強化し、部全体の装置開発能力を向上させていきたい 働き方 ・部署によっては年数回～月数回程度の出張あり（国内外） ・残業状況：20-40H 業務の都合等により、会社の指示する業務への異動を命じることがあります。 求める要件（必須） 以下、いづれか1つを満たすこと ・材料系、理工系、化学系、物理系などの企業の研究開発、量産開発経験者 ・半導体関係従事者、装置メンテナンス経験者、プロセス開発経験者が望ましいが必須ではない（他業種でも可） ・成膜関連の研究・業務を行っている方 生かせる経験（歓迎） ・ALD・CVDプロセス開発 1年以上 ・半導体製造装置、絶縁膜プロセス開発 1年以上 ・デバイスメーカー経験、ALD/CVDを用いたデバイスおよびプロセス開発 1年以上 ・半導体向け、プラズマ・機械・材料/素材・化学の開発経験 1年以上 求める人物像 ・問題解決の能力・経験 ・専門性の観点から自ら問題を設定できること ・問題解決のための課題設定、自ら手を動かし、協働できること・経験 ・曖昧な状況の中でも、主体的に行動できる能力・経験 ・協調性、コミュニケーション能力、論理性 選考ポイント ・社内外を含めたチームワーク、協調性が求められスピード感を持った業務が必要とされる ・新規材料、技術を適用するケースが多々あるためあらゆることに興味を持ち深堀できること ・目標及び顧客利益のためにあきらめず、粘り強く推し進めることが求められる ・業務に関してカバーすべき範囲が広く、その定義が曖昧であることが多いため、固定観念に囚われない柔軟性が必要。 ターゲットキーワード 半導体、物理、材料化学、化学、成膜、蒸着、プラズマ、真空、半導体ガス 学歴 高校・高専・大学卒以上、実務経験がある方（理系のみ）